普迪真空获得接连上料真空镀膜设备专利可极大提高接连镀膜功率

　　国家知识产权局信息数据显现，武汉普迪真空科技有限公司获得一项名为“一种接连上料的真空镀膜设备”的专利，授权公告号CN223723212U，请求日期为2025年2月。

　　专利摘要显现，本实用新型提出了一种接连上料的真空镀膜设备，包含镀膜腔室、样品库腔室和上下料设备，所述镀膜腔室与样品库腔室密封连通；所述样品库腔室内寄存有若干样品，所述上下料设备用于将样品库腔室内的样品移入镀膜腔室进行镀膜，并将镀膜后的样品移入样品库腔室内寄存。本实用新型经过样品库腔室寄存多个样品，并使用上下料设备将样品库腔室内待镀膜的样品转移至镀膜腔室进行镀膜，并将镀膜后的样品转移至样品库腔室暂存，然后持续将样品库腔室内待镀膜的样品转移至镀膜腔室进行镀膜，可完成真空镀膜设备的接连上料，且上下料过程中无需敞开箱门，不会损坏镀膜腔室内部的真空环境，可极大提高接连镀膜功率，且降低了屡次抽真空所需的能耗。

　　天眼查资料显现，武汉普迪真空科技有限公司，成立于2016年，坐落武汉市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本500万人民币。经过天眼查大数据分析，武汉普迪真空科技有限公司参加招投标项目208次，产业线条，此外企业还具有行政许可2个。

　　声明：商场有危险，出资需谨慎。本文为AI根据第三方数据生成，仅供参考，不构成个人出资主张。